На правах рекламы:
ISSN 0236-235X (P)
ISSN 2311-2735 (E)

Авторитетность издания

ВАК - К1
RSCI, ядро РИНЦ

Добавить в закладки

Следующий номер на сайте

4
Ожидается:
09 Декабря 2024

Ключевое слово: технология двойного фотошаблона

  1. Программа трансформации топологии субмикронных сверхбольших интегральных схем для технологии двойного фотошаблона
  2. Авторы статьи: Зинченко Л.А., Аверьянихин А.Е.